 |
Transistor de efecto de campo |
Conceptos:
Los transistores de efecto de campo (FET), son dispositivos de estado sólido en los cuales un campo eléctrico controla el flujo de portadores en un "canal'' (channel) de conductor en un material smiconductor. los FETs tienen tres terminales denominados puerta (gate), drenador (drain) y fuente (source).
 |
Figura 1. Estructura fisica simplificada (izquierda) y Simbologia circuital (derecha). |
Los FET, pueden plantearse como resistencias controladas por voltaje y al igual que los bipolares (BJT) pueden funcionar como fuentes dependientes de corriente (amplificadores, electronica analógica) o como interruptores controlados (electrónica digital). Sin embargo los FETs suelen dar lugar a circuitos mas sencillos debido a que ocupan menos espacio que los BJT. Por otra parte su resistencia de entrada es elevada y consume poca pontecia, siendo utilizados en los circuitos integrados.
También se usan en circuitos de alta frecuencia (microondas), especialmente los MESFET de arseniuro de galio, los cuales tienen un tiempo de respuesta rápida debido a la alta movilidad de los electrones en este material.
Una desventaja de los FETs con respecto a los BJT es su menor ganancia de amplicación. A diferencia de los BJT, los FETs son unipolares debido a que utilizan un solo tipo de carga para transportar la corriente.
Clasificación de los FETs:
Los transistores de efecto de campo más conocidos son los de unión (JFET), los transistores de metal oxido semiconductor de efecto de campo (MOSFET) y los transistores de efecto de campo de unión metal-semiconductor (MESFET).
 |
Tabla 1. Clasificación de los transistores de efecto de campo |
Transistor de efecto de campo de unión (JFET).
En la figura 2 se representa la construcción básica de un
JFET de canal n. Se observa como la mayor parte de la estructura es de material
tipo n ligeramente dopado formando un canal en ambos extremos (terminales de
Drenador y de Fuente). Este canal se encuentra entre dos regiones de compuesta
tipo p+ (fuertemente dopado) que constituyen los terminales de la compuesta.
En algunos casos los dos terminales de puerta están
accesibles (JFET de doble puerta) aunque lo más habitual es que ambos
terminales estén cortocircuitados teniendo un único terminal de puerta
(dispositivo de tres terminales). En ausencia de potencial aplicado, las dos
uniones p-n que aparecen están sin polarizar. El resultado es una región de
vaciamiento o zona de deplexión, la cual es una región en donde no existen
portadores de carga.
 |
Figura 2. Estructura Básica del JFET canal n. (a) JFET de
doble puerta. (b) JFET de tres terminales.
|
Los terminales de un JFET son los siguientes:
D = Drenador: (Drain).
Terminal por el que salen los portadores (los electrones en el JFET de canal n
y los huecos del canal p).
S = Fuente: (Source).
Terminal por el que entran los portadores de carga.
G = Puerta (Gate):
Terminal que controla la corriente de portadores a través del canal.
Al hablar del JFET se hará el estudio del JFET de canal n,
para el caso del JFET de canal p el estudio sería completamente análogo y en el
momento de hacer referencia a ellos se especificará que se trata de un JFET
canal p.
 |
Figura 3. Polarización del JFET
|
Cuando
se aplica una tensión

, las uniones p-n están más inversamente
polarizadas en la zona del drenador que en la zona de la fuente, por ende,
anchura efectivamente del canal será menor en la parte del drenador que en la
parte de la fuente. (ver figura 4).
 |
Figura 4. Efecto de la tensión  . El canal se estrecha
en la zona del drenador.
|
Para
valores pequeños de la tensión

, aplicada el estrechamiento del canal no
será importante, por lo que el dispositivo se comporta como una resistencia, de
forma que la relación entre la tensión aplicada y la corriente que circula por
el dispositivo será lineal, tal y como establece la
Ley de Ohm. Sin embargo,
a medida que se aumenta la tensión aplicada, el estrechamiento de canal se va
haciendo más importante, aumentando la resistencia con un menor incremento en
la corriente ante un mismo incremento de la tensión de la tensión aplicada.
 |
Figura 5.. Características con . |
En la
figura 5 se muestra diversas curvas cuando el JFET está trabajando en la
región óhmica. Si
, para
valores de
, las
uniones p-n están polarizadas inversamente. Una polarización inversa de dichas
uniones incrementa el ancho de la zona de deplexión disminuyendo la anchura
efectiva del canal n. Por tanto la resistencia del canal aumenta, de manera que
en la zona de comportamiento óhmico, es decir, para valores pequeños de la
tensión
aplicada
donde la relación
es
lineal, la pendiente será tanto menor cuanto más negativa sea
.
 |
Figura 6. La tensión modula la anchura del canal.
|
 |
Figura 7. La tensión modula
la anchura del canal. Cuando , el canal se cierra por completo. |
Figura 8. Características
ideales de un JFET de canal n.
(a) Características de salida. (b)
Características de transferencia.
En la figura 8 a se representan las
curvas características de salida para un JFET de canal n.
En esta figura se representa la corriente de drenador,
frente
a la tensión drenador-fuente,
, para
distintos valores de la tensión puerta – fuente,
. El
valor de la tensión
para
el que se produce la saturación de la corriente de drenador cuando
, está
representado
.
- Zona de corte o de no conducción: No existe corriente de drenador,
.
- Zona
óhmica o de no saturación:
crece
proporcionalmente a
para
la misma
El
transistor es una resistencia variable dependiente de El transistor es una resistencia variable dependiente de
.
- Zona
de saturación o de corriente constante:
deja
de crecer y se hace constante,
solo
depende de
. El
transistor se comporta como una fuente de corriente dependiente de
.
- Zona
de ruptura: Se
alcanzó la tensión de ruptura, (característico de cada unión y que suele ser
proporcionado por el fabricante en sus hojas de características) la unión se
perfora, produciéndose la ruptura del dispositivo.
La
forma gráfica de la corriente de salida
y el
voltaje de entrada
recibe
el nombre de curva de transferencia y se muestra en la figura 2.7.b. El término
cuadrático presente en la ecuación de 
,
para
el estado activo, (ver table 2) dará por resultado una relación no lineal
entre 
y

.
Tabla
2. Funcionamiento para JFET canal n. Ecuación de

según
su estado.
Transistores de metal-oxido
semiconductor de efecto campo (MOSFET)
MOSFET de enriquecimiento o
acumulación.
El MOSFET de enriquecimiento está formado
por una zona de material semiconductor tipo p en la que aparecen dos zonas tipo
n+ con contactos metálicos a los terminales de drenador y fuente (ver figura 9). El terminal de puerta está aislado con una capa de material aislante, en
este caso óxido de silicio. Es precisamente debido a esta estructura de donde
le viene el nombre al dispositivo de Metal – Óxido – Semiconductor (MOS).
Además, este dispositivo tendría un cuarto terminal, el terminal de Sustrato
(SS), aunque habitualmente éste se encuentra conectado a la fuente.
 |
Figura 9. Estructura básica del MOSFET
de acumulación canal n.
|
Los transistores
MOSFET de enriquecimiento de canal n se polarizan aplicando una tensión
positiva entre drenador y fuente (

) y
una tensión positiva entre puerta y fuente (
), como se muestra en la figura 10.a De esta forma, la corriente circulará en el
sentido de drenador a fuente. En el caso del MOSFET de acumulación de canal p
la tensión
a
aplicar debe ser negativa y tensión 
negativa, de esta forma la corriente
fluirá en el sentido de la fuente hacia el drenador.
 |
Figura 10. Polarización del MOSFET de
acumulación.
|
Figura 11. Efecto de
,
(a)
; (b)
;
(c) Comienza
a formarse el canal, (d) Canal
formado.
serán iguales, y por lo tanto el canal
será simétrico respecto de la puerta.
Comentarios
Publicar un comentario